一种光学邻近校正建模方法及其系统

本发明公开一种光学邻近校正建模方法及其系统。本发明通过获取相同版图图形针对不同光刻胶厚度的多个膜层数据，利用多个膜层数据以及光源信息预先建立不同的光学模型；根据测量数据中的光刻胶厚度选择对应的光学模型；由选择的光学模型以及光阻模型、光罩模型构建光刻模型；通过光学模型参数、光阻模型参数、光罩模型参数的取值范围内进行随机取值，生成多个参数组合；使用多个参数组合通过仿真软件对光刻模型进行光刻仿真，评估不同参数组合下的光刻效果，筛选出最优参数组合。本发明采用在膜层结构中不同区域引入不同光学模型，降低后续OPC补修概率，提高半导体制造的精度和效率。