掩模版图的处理方法、装置、设备、介质及产品

本申请公开了一种掩模版图的处理方法、装置、设备、介质及产品，涉及半导体集成电路技术领域。该掩模版图的处理方法包括：对目标掩模版图进行光刻规则检查，得到目标掩模版图的目标版图特征信息；通过缺陷修正模型对目标版图特征信息进行处理，得到目标掩模版图的目标缺陷修正策略，缺陷修正模型为根据历史版图特征信息以及对应的历史缺陷修正策略对大模型进行微调后得到的模型；基于目标缺陷修正策略，对目标掩模版图进行缺陷修正，得到缺陷修正后的目标掩模版图。