一种用于PST测试的模拟杂光自适应生成方法

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一种用于PST测试的模拟杂光自适应生成方法
申请号:CN202510487633
申请日期:2025-04-18
公开号:CN120008890B
公开日期:2025-07-11
类型:发明专利
摘要
本发明公开了一种用于PST测试的模拟杂光自适应生成方法,属于光学测试技术领域,其具体包括:获取待测试光学系统参数和测试环境参数,建立包含光线追迹、散射、反射和衍射模型的杂光模型,并采用改进的光线追迹算法模拟光线传播路径;利用基于深度学习的自适应算法调整杂光生成参数,如光源强度、波长和入射角度;利用可调控的杂光生成装置根据调整后的杂光生成参数生成模拟杂光,并结合成像技术生成模拟杂光分布图,再与光学系统成像面叠加得到包含杂光的成像结果;根据成像结果计算PST值,以评估光学系统的杂光性能,提高了杂光性能评估的准确性和可靠性。
技术关键词
卷积神经网络模型 生成参数 生成方法 评估光学系统 光学元件 光学系统参数 测试环境参数 反射率数据 生成装置 光强 反射率曲线 粗糙度 成像设备 测试光学系统 光学测试技术 CMOS传感器 蒙特卡罗方法
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