基于反馈前馈模拟的Overlay数据分析与预测系统

本发明提供基于反馈前馈模拟的Overlay数据分析与预测系统，涉及半导体对准优化与智能控制领域，包括主体系统，主体系统中包含数据采集模块、数据处理与存储模块、分析模拟模块和预测与校正模块；数据采集模块设置于光刻设备关键位置的传感器，包含部署在曝光单元、工件台、透镜组上的0.1nm分辨率光学编码器、64通道MEMS振动传感器、红外热成像单元，实时采集生产批次的Overlay数据，本系统采用小波变换‑独立成分分析联合降噪技术，以及深度残差网络算法，能够从海量的光刻数据中精准提取关键特征。通过对这些特征的深度分析，挖掘数据背后隐藏的潜在规律，使对Overlay的分析不再局限于表面，能够提前发现潜在的工艺问题，为预防性维护和工艺优化提供有力支持。