一种基于增透层的扇形波导光栅产生高斯光的装置及方法
申请号:CN202510862332
申请日期:2025-06-25
公开号:CN120447216A
公开日期:2025-08-08
类型:发明专利
摘要
本发明提供了一种基于增透层的扇形波导光栅产生高斯光的装置,包括:扇形光栅,其张开角度为60°,波导材质为氮化镓,基底为氧化铝;刻蚀于扇形光栅上的变迹周期光栅,由若干个椭圆型凹槽组成,每个凹槽为椭圆的右半部分曲线片段;覆盖在扇形光栅表面的二氧化硅增透层,其折射率介于空气和基底材料之间。本发明还提供了一种基于增透层的扇形波导光栅产生高斯光的装置的光耦合方法。本发明通过覆盖在光栅表面的二氧化硅增透层的设计减少了光在界面上的反射损耗,优化了光耦合效果,实现了自由空间光与集成光芯片之间的高效耦合;还可以通过调节增透层的厚度和光栅刻蚀深度,有效提高了光栅的衍射效率,使得更多的光子被精确地引导到目标区域。
技术关键词
光栅
波导
二氧化硅
椭圆型
耦合方法
周期
刻蚀深度
氮化镓
基底
凹槽
焦点
氧化铝
光芯片
波长
空气
损耗
界面
曲线
表达式
包络