基于激光跟踪仪感知的磁流变抛光系统及抛光方法
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基于激光跟踪仪感知的磁流变抛光系统及抛光方法
申请号:
CN202510900323
申请日期:
2025-07-01
公开号:
CN120395567B
公开日期:
2025-09-02
类型:
发明专利
摘要
本发明涉及磁流变抛光技术领域,尤其涉及一种基于激光跟踪仪感知的磁流变抛光系统及抛光方法,通过激光跟踪仪测量磁流变抛光系统在加工过程中位姿的实时变化,利用电磁铁磁场强度调节或抛光轮位置与电磁铁磁场强度的同时调节实现去除函数的实时恒定控制。该方法不需要对力传感器等测量设备进行标定;不受磁流变抛光系统重量、设备自身运行精度、运行速度、姿态以及其他因素的影响,可以实时测量出加工过程中磁流变抛光系统的位姿变化,直观反映出磁流变抛光系统的位姿误差,具有设备成本低、测量精度高的优点。
技术关键词
激光跟踪仪
工业机器人
抛光元件
抛光方法
磁流变抛光系统
轨迹
调节电磁铁
抛光轮驱动装置
坐标系
误差
加工点
支撑固定架
理论
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