一种高良率高集成2.5D封装结构及封装方法

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一种高良率高集成2.5D封装结构及封装方法
申请号:CN202510988148
申请日期:2025-07-17
公开号:CN120895565A
公开日期:2025-11-04
类型:发明专利
摘要
本发明涉及芯片封装技术领域,具体地说是一种高良率高集成2.5D封装结构及封装方法。括若干间隔设置的中介层芯片,中介层芯片两侧表面分别设有导电结构一,中介层芯片一侧表面通过导电结构二连接硅桥芯片、HBM芯片、SoC芯片,并且硅桥芯片一侧分别连接相邻的两个中介层芯片,中介层芯片另一侧表面通过导电结构一连接对外电连接结构。同现有技术相比,将已知良率的中介层芯片进行fan out后晶圆重构形成一个大面积的中介层,从而提升大面积中介层的良率并提高集成度;已知良率的中介层芯片中间通过硅桥互连而不是基板互连,从而提升带宽。
技术关键词
中介层 导电结构 封装结构 电连接结构 封装方法 剥离层 芯片封装技术 重布线层 良率 重构 凸块 基板
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