
风格迁移重大突破!西湖大学等提出StyleStudio攻克「过拟合」难题 | CVPR 2025
风格迁移重大突破!西湖大学等提出StyleStudio攻克「过拟合」难题 | CVPR 2025StyleStudio能解决风格迁移中风格过拟合、文本对齐差和图像不稳定的问题,通过跨模态AdaIN技术融合文本和风格特征、用教师模型稳定布局、引入基于风格的无分类器引导,实现精准控制风格元素,提升生成图像的质量和稳定性,无需额外训练,使用门槛更低!
来自主题: AI技术研报
2498 点击 2025-03-07 11:04