一种半导体器件结构及其制备方法和芯片

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一种半导体器件结构及其制备方法和芯片
申请号:CN202510327902
申请日期:2025-03-19
公开号:CN119852281B
公开日期:2025-09-23
类型:发明专利
摘要
本发明公开了一种半导体器件结构及其制备方法和芯片,属于半导体器件技术领域。半导体器件结构,包括金银合金凸块和UBM层,其中UBM层由种子层、扩散阻挡层和粘附层组成,或者由扩散阻挡层和粘附层组成;所述扩散阻挡层由铂族元素单质和/或包含铂族元素的合金构成,优选由铂、铑、铱或它们的合金构成;金银合金凸块底部与种子层或扩散阻挡层连接,粘附层与芯片电极连接。本发明通过对UBM层的改进,提高金银合金凸块与UBM层的结合可靠性,获得的半导体器件结构能够通过高端芯片可靠性测试,实现金银合金替代金制备倒装芯片。
技术关键词
半导体器件结构 扩散阻挡层 合金凸块 金银 种子层 粘附层材料 芯片可靠性测试 铂族元素 液晶驱动芯片 倒装芯片 半导体器件技术 钛氮合金 涂覆光刻胶 功率芯片 气相 存储芯片
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