一种射电流沉积工艺下钛合金表面Cu-HAp涂层硬度的预测方法

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一种射电流沉积工艺下钛合金表面Cu-HAp涂层硬度的预测方法
申请号:CN202511074771
申请日期:2025-08-01
公开号:CN120948257A
公开日期:2025-11-14
类型:发明专利
摘要
本发明提出了一种射流电沉积工艺下Ti6Al7Nb表面Cu‑HAp涂层硬度的预测方法,包括配置电解液,对Ti6Al7Nb钛基底预处理,将电解液倒入储液槽中,以Ti6Al7Nb钛板为阴极,铜棒为阳极进行射流电沉积镀层试验,获得Cu‑HAp复合涂层,通过硬度测量试验获得涂层表面维氏硬度,根据单因素分析法,分析射流电沉积工艺参数对硬度的影响程度,对数据归一化处理,根据灰色关联度法研究影响涂层表面硬度的最显著因素,基于多元回归算法建立硬度关于射流电沉积参数的预测模型。
技术关键词
电沉积工艺 多元预测模型 多元回归算法 射流 涂层 纳米羟基磷灰石 电解液 聚乙烯吡咯烷酮 乙二胺四乙酸 钛合金板 灰色关联度分析 试件表面 去离子水 电沉积设备 电沉积参数 显微硬度计 打磨器